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钆镓石榴石(GGG)是用于磁光薄膜的基片。在光通讯设备中,需大量使用1.3μ及1.5μ的光隔离器,其主要部件为置于磁场中的YIG或BIG膜。不同切向的GGG单晶基片可以做到与这类磁光材料晶格的匹配,从而确保 YIG、BIG 薄膜成功的外延生长。

关键词:

GGG

所属分类:

  • 产品描述
  • 产品特性
  • 技术参数
  • 典型应用
    • 商品名称: GGG

    钆镓石榴石(GGG)是用于磁光薄膜的基片。在光通讯设备中,需大量使用1.3μ及1.5μ的光隔离器,其主要部件为置于磁场中的YIG或BIG膜。不同切向的GGG单晶基片可以做到与这类磁光材料晶格的匹配,从而确保 YIG、BIG 薄膜成功的外延生长。

    GGG 良好的物理、机械性能和化学稳定性也确保了薄膜制备过程中对膜的各项要求。在磁制冷行业,GGG成功应用在20K以下温区,用于市场HeII流以及氦氮液化前级制冷。

    主要点:

    低光学损耗(<0.1%/cm)

    高导热性(7.4W m-1K-1)

    高激光损伤阈值(>1GW/cm2)

    典型应用:

    YIG和BIG磁光外延膜的衬底材料

    磁泡存储器

    磁制冷

  • 材料

    GGG

    SGGG

    分子式

    Gd3Ga5O12

    Substituted Gd3Ga5O12

    晶体结构

    立方晶系

    立方晶系

    晶格常数

    a=12.383 Å

    a=12.497 Å

    生长方法

    Czochralski

    Czochralski

    莫氏硬度

    8.0

    7.5

    密度

    7.13g/cm³

    7.09g/cm³

    熔点

    1725℃

    1730℃

    反射系数

    1.954 @ 1064nm

    1.954 @ 1064nm

  • 科瑞思创提供:

    最大尺寸

    Φ101.6mm

    厚度

    0.5mm, 或客户定制

    抛光

    单面或双面

    晶向

    <111>±0.2°

    定位边精度

    0.2°(定制可达到1°以内)

    表面粗糙度

    Ra≤1nm, EPI ready

    备注:以上参数为参考数据,具体产品技术要求请联系销售人员确认。

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