双摆研磨抛光机
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双摆研磨抛光机

用于高精度薄片型光学元件加工。

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双摆研磨抛光机

  • 产品描述
  • 产品特性
  • 技术参数
  • 典型应用
    • 商品名称: 双摆研磨抛光机

    用于高精度薄片型光学元件加工。

    用于高精度薄片型光学元件加工。

  • 1、双摆联动,更无序的抛光轨迹
    2、复合了古典双面抛光上置磨盘,适合双面薄片型光学元件高效、高精度抛光

  • 项 目

    1200型

    800

    可加工元件材料

    蓝宝石、碳化硅、熔石英、K9

    蓝宝石、碳化硅、熔石英、K9等

    可加工元件范围

    ≤1000mm

    ≤600mm

    抛光盘转速

    0~20r/min

    0~30r/min

    盘面跳动

    ≤0.15mm

    ≤0.1mm

    气压及配重方式

    ≥20kg

    ≥20kg

    摆架摆动频率

    0-20rpm

    0-30rpm

    操作界面

    PLC+触摸屏

    PLC+触摸屏

    抛光液供给

    选配

    选配

    摆盘最大可调范围

    250mm

    200mm

    摆杆收缩范围

    200mm

    200mm

    摆次

    0~20r/min

    0~30r/min

    副摆可调范围

    125mm

    90mm

    机床总功率

    6KW

    6KW

    机床尺寸

    2100mm*1800mm*1500mm

    1850mm*1550mm*1500mm

    机床重量

    1900KG

    1200KG

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